产品介绍

        PF-300T Altair TiN 是一款热型原子层沉积（Thermal ALD）设备，聚焦高性能氮化钛（TiN）金属薄膜沉积，可实现不同温度、不同厚度的 TiN 薄膜沉积。产品在颗粒控制能力、膜厚及电阻均匀性、高深宽比台阶覆盖率等方面达到国际领先水平。产品可搭载3个两站式反应腔，产能高，坪效比优异，已广泛应用于先进逻辑、存储和封装等领域。

产品特点
        - 高质量 TiN 薄膜沉积能力
        - 超高深宽比结构台阶覆盖率可达90%以上
        - 优异的颗粒控制能力、膜厚及电阻均匀性
        - 可搭载3个两站式反应腔，具备优异的产能和坪效比