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拓荆HDPCVD反应腔装机量突破70个,量产机台国内遥遥领先

2024-08-22
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        自2021年底拓荆推出国内首台HDPCVD到客户端,目前已升级为新型六边形平台,产品性能达到业界领先水平,坪效比业界第一。凭借研发实力和先进的设计理念获得客户赞誉和信任,市场占有率不断攀升。自首台完成验证后,客户持续增加HDPCVD设备采购量,截止到目前反应腔累计装机量已超过70个, 2024年底预计将突破100个。

        拓荆的HDPCVD设备Hesper产品采用六边形平台(TS-300S),可搭配5个反应腔,实现了高产能、高开机率、易维护和优异的薄膜填充能力。同时具有Wafer残余吸附力监测系统,稳定的静电吸附力和自动控温模式等功能。Hesper主要用于STI、ILD、IMD及Passivation等各种沟道介质填充。





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