拓荆HDPCVD反应腔装机量突破70个，量产机台国内遥遥领先
2024-08-22
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自2021年底拓荆推出国内首台HDPCVD到客户端，目前已升级为新型六边形平台，产品性能达到业界领先水平，坪效比业界第一。凭借研发实力和先进的设计理念获得客户赞誉和信任，市场占有率不断攀升。自首台完成验证后，客户持续增加HDPCVD设备采购量，截止到目前反应腔累计装机量已超过70个， 2024年底预计将突破100个。
拓荆的HDPCVD设备Hesper产品采用六边形平台(TS-300S)，可搭配5个反应腔，实现了高产能、高开机率、易维护和优异的薄膜填充能力。同时具有Wafer残余吸附力监测系统，稳定的静电吸附力和自动控温模式等功能。Hesper主要用于STI、ILD、IMD及Passivation等各种沟道介质填充。
