拓荆科技精彩亮相 CSEAC2025，共话半导体设备创新与未来

        展会期间，拓荆展台人流如织，气氛热烈。来自集成电路产业链上下游的企业代表、行业专家与客户纷纷莅临，与现场技术团队就技术趋势及应用挑战等话题进行了广泛而深入的沟通。

        >大咖开讲，洞见行业趋势

        大会主论坛上，拓荆科技董事长吕光泉博士受邀发表了题为《先进ALD和键合设备推动集成电路向多维创新发展》的演讲，深入剖析了原子级制造和键合等先进集成技术对推动先进封装和下一代半导体制造发展的重要性与实施路径。他强调，拓荆科技在相关技术上创新不断，未来将持续高强度研发投入，与业界合作推动集成电路前道和后道技术创新发展。

        吕光泉博士还受邀参加了“半导体制造与设备及核心部件董事长论坛”，在圆桌讨论环节围绕半导体设备的发展机遇与各企业领袖展开了深入交流。

        在“半导体设备与核心部件配套新进展论坛”上，拓荆科技ALD 事业部总经理陈新益博士分享了《先进制程中的超薄薄膜技术及应用》的主题报告，系统介绍了我司在超薄薄膜沉积领域的技术突破及其在先进逻辑和存储制程中的关键应用，展现了拓荆在前沿技术领域的扎实积累。

        >技术分享，传递前沿干货

        展会期间，拓荆科技在展位现场共举办五场技术分享活动。公司多位资深技术专家轮番上阵，围绕薄膜沉积、三维集成等热点领域，带来了多场内容充实的前沿技术讲解。每场活动都吸引了大量专业听众，现场人潮汹涌，交流互动踊跃，成为展区一道亮丽的风景线。

        >持续创新，助力产业前行

        通过此次CSEAC展会，拓荆科技全面展示了其在薄膜沉积及三维集成等高端半导体设备领域的研发成果与量产实力。面对全球半导体产业的快速发展与变革，拓荆科技坚持以技术和产品创新驱动业务发展，通过持续加大研发投入，保持产品核心竞争力，凭借已有的技术、人才、经验及售后服务等优势， 推动集成电路产业高质量发展。