产品名称
PF-300T Altair
12英寸 Thermal ALD设备
产品介绍
PF-300T Altair 系列是我公司自主研发的热原子层沉积(Thermal Atomic Layer Deposition)设备,以高产能PEALD设备核心技术为基础,针对相应薄膜沉积的特殊性,对反应腔模块及关键部件优化设计,实现成本更低,纯度更高的薄膜的沉积。
产品名称
PF-300T Altair
12英寸 Thermal ALD设备
产品特点
- 理想的热原子层沉积系统
- 更快速的脉冲及吹扫,实现更高的产能
- 精准的化学源剂量控制,实现工艺长期稳定性
- 独特的温控设计,实现更高纯度的薄膜
- 维护简便,易耗件生命周期长,清洗成本低