PF-300T Altair
12英寸 Thermal ALD设备

产品介绍

PF-300T Altair 系列是我公司自主研发的热原子层沉积（Thermal Atomic Layer Deposition）设备，以高产能PEALD设备核心技术为基础，针对相应薄膜沉积的特殊性，对反应腔模块及关键部件优化设计，实现成本更低，纯度更高的薄膜的沉积。

PF-300T Altair
12英寸 Thermal ALD设备

产品特点
- 理想的热原子层沉积系统
- 更快速的脉冲及吹扫，实现更高的产能
- 精准的化学源剂量控制，实现工艺长期稳定性
- 独特的温控设计，实现更高纯度的薄膜
- 维护简便，易耗件生命周期长，清洗成本低