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产品介绍

SACVD 设备系列是我公司自主研发的次常压化学气相沉积(SACVD)设备。SACVD反应腔搭载在已通过量产验证的高产能PECVD平台上,充分实现客户对产能的需求。该设备主要应用在STI、PMD/ILD等,满足Gap-fill的需求。


产品特点
-高质量的TEOS SiO2和BPSG工艺
-可依客户选择配置1-3路液态源,实现多种先进工艺
-可与8英寸兼容互相切换(PF-200T SA)
-可搭载1-3个PM
-通过S2安全认证和F47标准检验

 
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